畅谈绝缘体上硅技术 国际知名学者Sorin Cristoloveanu做客“微芯学堂”

时间:2024-03-20供稿单位:微电子学院浏览量:23

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Sorin教授做学术报告

3月12日,微电子领域国际知名专家、广东大湾区集成电路与系统应用研究所(GIICS)首席科学家、法国国家科学研究中心(CNRS)名誉研究主任Sorin Cristoloveanu做客“微芯学堂”,开展了题为“SOI Technology: State of the Art and Trends”的专题讲座。

本次学术交流的核心话题是SOI(silicon-on-insulator)即绝缘体上硅技术。该技术诞生于上世纪80年代,典型设计是利用一个薄绝缘层(通常是氧化物),将一层位于顶层的单晶硅层与体硅衬底隔开,顶层单晶硅厚度从50纳米以下到几十微米不等,隔离绝缘层厚度从几十纳米到几个微米不等。SOI技术使得晶体管在耐热、耐压以及低功耗等性能方面有了实质性提升,被认为是后摩尔时代最具竞争的延续技术之一。

在报告中,Sorin教授从SOI技术的诞生讲起,勾画了一个清晰的技术发展脉络,讲述SOI技术如何以其独特的优势和特性,逐渐在集成电路产业中占据重要位置。随后,他着重介绍了一系列具有里程碑意义的集成电路器件技术与工艺,包括智能剥离技术smart cut、全耗尽场效应管、无结晶体管、四栅晶体管、静电掺杂等。

他以幽默诙谐的方式预言,SOI技术将在集成电路领域持续发光发热,甚至有望一直延续到MOS场效应管诞生的150周年,引发了在场师生对于未来科技发展的遐想和无限憧憬。他们表示,这次交流不仅拓宽了知识储备,还提升了专业技能,对未来的科研、学习具有指导意义。

活动吸引了百余名师生参与,是大发888官方下载,大发官网老虎机888推动微电子领域学术交流与合作的举措之一。据悉,为拓宽学生行业视野,帮助学生更好了解行业发展趋势,培养专业素养和担当精神,微电子学院自2021年起推出“微芯学堂”系列讲座,不定期邀请国内外行业专家、学术大师开讲,与学生面对面交流。本次讲座是该系列讲座的第32场。

Sorin Cristoloveanu教授是法国格勒诺布尔理工学院电子学和物理学博士,曾在国际会议上发表1200多篇技术期刊论文和简报,以“绝缘体上硅技术和薄体器件”的研究成果获2017年IEEE安迪·格鲁夫奖(IEEE Andrew S. Grove Award)。




文字:微电子学院

图片:微电子学院

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编辑:鲍恩

责任编辑:徐培木

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